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ANALYSIS

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[제20251017-TE-01호] 2025년 10월 17일 반도체 장비 관련 주요 뉴스 요약

  • 이도윤
  • 10월 17일
  • 1분 분량

도쿄일렉트론, 구마모토에 차세대 노광 개발 시설 20년 만에 신설

(2025년 10월 17일, 글로벌이코노믹, 이용수 기자)


[핵심 요약]


[1] 신설 개발 시설

도쿄일렉트론이 일본 구마모토에 20년 만에 코터·디벨로퍼 개발 시설 신축, 2026년 봄 가동 목표.


[2] 투자 규모 및 시설 확장

총 투자액 약 470억 엔, 기존 대비 클린룸 면적 2배 확대, 개발 효율 2배 향상으로 기술 개발량 4배 증가 기대.


[3] 시장 점유율 전략

코터·디벨로퍼와 세정 장비 전 분야에서 시장 점유율 확대 목표, EUV 노광장비용 코터·디벨로퍼는 점유율 100%.


[4] 차세대 기술 도입 계획

고NA EUV 노광장비 관련 기술 집중 도입, 2나노미터 이하 미세공정 대응 강화.


[5] 반도체 제조 장비 일괄 평가 준비

향후 에칭·성막 장비도 개발 공간 마련, 제조사들이 공정을 통합 평가할 수 있도록 설비 확대 추진.

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