[제20260313-TT-01호] 2026년 3월 13일 반도체 기술 관련 주요 뉴스 요약

스마트폰·AR 안경 더 얇게…메타표면 제조 '나노프린팅'이 돌파구

(2026년 3월 13일, 동아사이언스, 조가현 기자)

[핵심 요약]

[1] 차세대 광학 소자 메타표면 주목

곡면 렌즈 기능을 평면 칩에 구현할 수 있는 광학 메타표면이 스마트폰과 AR 안경을 더 얇고 가볍게 만들 기술로 주목받지만 제작이 어렵고 비용이 높은 한계 존재.

[2] 포스텍 연구팀 나노프린팅 기반 제조 방향 제시

포스텍 노준석 교수 연구팀이 나노프린팅 기술을 활용한 메타표면 제조 가능성과 발전 방향을 정리한 리뷰 논문을 국제학술지 네이처 리뷰 머티리얼즈에 발표.

[3] 기존 전자빔 리소그래피 공정의 한계

기존 메타표면 제작은 전자빔 리소그래피 기반 반도체 공정에 의존해 높은 해상도 확보 가능하지만 공정 속도가 느리고 비용이 높아 대량 생산에 한계 존재.

[4] 나노임프린트와 나노전사 프린팅 기술 부상

나노임프린트 리소그래피는 도장 방식으로 나노 패턴을 복제해 대면적 생산에 유리하며 나노전사 프린팅은 특정 구조만 선택적으로 옮겨 다양한 광학 재료 적용 가능.

[5] 재료 기술 발전으로 메타표면 성능 향상

기존 폴리머 소재 중심에서 나노복합체 유리 계열 무기 소재 능동 재료 등으로 재료 선택 폭이 확대되며 메타렌즈와 홀로그램 소자 등 실제 산업 응용 가능성 확대.