[제20260112-TM-01호] 2026년 1월 12일 반도체 제조 관련 주요 뉴스 요약

삼성, EUV 공정에 국산 '블랭크 마스크’ 쓴다

(2026년 1월 12일, 전자신문, 권동준 기자)

[핵심 요약]

[1] 국산 EUV 블랭크 마스크 도입

삼성전자가 2분기 도입을 목표로 국내 에스앤에스텍의 EUV 블랭크 마스크를 평가 중이며 이달 중 또는 다음달 완료 예정으로 국산화 성과 기대.

[2] 포토마스크 핵심 소재 국산화

반도체 회로를 새기는 데 필수적인 블랭크 마스크를 국산 제품으로 대체하며 그동안 일본 호야·아사히글라스에 의존하던 공급망을 다변화.

[3] EUV 공정 점진적 확대 계획

고가의 EUV 공정이라 초기 일부 라인에 국산 마스크 적용하고 품질·생산성 확인 후 점진적 범위 확대 추진.

[4] 에스앤에스텍 생산 체제 구축

에스앤에스텍이 지난해 용인에 전용 공장 설립하고 삼성 공급 후 수요에 맞춰 추가 증설 계획으로 공급망 안정화 추진.

[5] EUV 블랭크 마스크 시장 성장

올해 약 3억달러 규모 시장이 2035년 13억달러로 연평균 16.5% 성장 예상되며 장당 수천만원~1억원 수준으로 수입 대체 효과와 국내 소재 산업 성장 기대.