[제20260127-TE-01호] 2026년 1월 27일 반도체 장비 관련 주요 뉴스 요약

"반도체 노광 장비, ASML 추격보다 X선 방식으로 우회해야"

(2026년 1월 27일, 아이뉴스24, 권서아 기자)

[핵심 요약]

[1] EUV 기술 추격의 현실적 한계

ASML이 극자외선(EUV) 노광장비 기술과 특허를 수십 년간 축적해온 영역이므로, 후발 주자가 동일한 경로를 따라잡는 것은 현실적이지 않으며 우회 전략 수립이 필수적.

[2] X선 노광장비의 기술적 우월성

X선은 EUV보다 파장이 짧아 이론적으로 더 미세한 회로 구현이 가능하며, 기존 노광 기술의 물리적 한계를 넘어설 수 있는 차세대 기술로 평가받고 있음.

[3] 국내 반도체 장비 공급망의 취약성

국내 반도체 장비 국산화율이 20% 미만이고 수입 기준으로 미국·일본·네덜란드 의존도가 77% 수준이며, EUV 노광장비는 100% ASML에 의존하고 있는 심각한 상황.

[4] 글로벌 공급망 보호주의 심화로 인한 위험

각국이 장비 수출 규제를 강화하고 중국은 국산 장비 사용을 50% 이상 의무화하는 추세 속에서 핵심 공정 장비 확보 실패 시 산업 경쟁력과 공급망 안정성 위협.

[5] X선 기술 개발의 현실적 기반과 과제

국내는 방사광 가속기 운용 경험과 다층박막, 정밀 스테이지 등 요소기술이 축적돼 있으나, 옵틱 기술과 스테이지 등 핵심 요소를 국내에서 먼저 확보해야 완전한 국산화 가능.