[제20260203-TM-01호] 2026년 2월 3일 반도체 제조 관련 주요 뉴스 요약

삼성, ASML출신이 만든 첨단 제조공정 기업에 투자…2나노 수율 승부수

(2026년 2월 3일, 한국경제, 김채연 기자)

[핵심 요약]

[1] 삼성전자의 인비식스 투자와 고도화된 계측 솔루션 도입

삼성전자가 삼성벤처투자를 통해 ASML 출신 엔지니어가 2024년 설립한 네덜란드 반도체 계측 스타트업 인비식스에 투자해 소프트 엑스레이(SXR) 기반 3D 계측 솔루션 도입으로 웨이퍼 비파괴 검사 시간 단축.

[2] 2나노 GAA 공정의 수율 안정화 전략

삼성전자가 2나노 기반 게이트올어라운드(GAA) 공정에 인비식스의 계측 솔루션을 도입하면 복잡한 회로 구조의 결함 검출과 수율 안정화에 상당한 시너지를 낼 수 있을 것으로 예상되며 EUV 노광 장비 성능 검증의 핵심 파트너 역할 가능.

[3] 펨토메트릭스 추가 투자와 HBM4 공정 최적화

삼성벤처투자가 반도체 계측 장비 스타트업 펨토메트릭스에 10년 만에 추가 투자를 단행했으며, 레이저 기반 특수신호(SHG) 분석 기술로 웨이퍼 결함을 무손상 검출해 HBM4 적층 단계 전 불량 제품을 사전 필터링 가능.

[4] 초미세 공정 경쟁에서 수율 관리 체계 구축

삼성전자가 현재 2나노 공정 수율 50%대를 확보하며 양산 준비를 가속화하는 가운데, TSMC 추격을 위해 수율 안정화 기간 단축이 가장 중요한 과제이며 제조 공정 투자는 수율 관리의 구조적 시스템 구축 과정.

[5] 첨단 제조 공정 투자의 경쟁 우위 전략

삼성전자의 계측 장비 회사 투자는 초미세 공정 경쟁에서 강력한 무기가 될 수 있으며, AI 열풍으로 고성능 반도체 수요 증가 속에 파운드리 주도권 확보를 위한 선제적 투자로 평가됨.