[제20260308-TE-01호] 2026년 3월 8일 반도체 장비 관련 주요 뉴스 요약

"중국판 ASML 만들어야"…현지 반도체 업계, 정부에 지원 촉구

(2026년 3월 8일, ZDNet Korea, 장경윤 기자)

[핵심 요약]

[1] 중국 반도체 업계, 노광장비 개발 국가 지원 촉구

중국 주요 반도체 기업 경영진들이 향후 5년 동안 반도체 제조 핵심 장비인 노광(리소그래피) 시스템 개발을 위해 국가 차원의 집중 지원 필요성 강조.

[2] ‘중국판 ASML’ 구축 전략 제안

노광장비 분야에서 글로벌 선두 기업인 ASML과 같은 통합 시스템 기업을 중국에서도 육성하기 위해 자금과 인력 등 자원을 국가 차원에서 집중해야 한다는 의견 제시.

[3] EUV 장비는 7나노 이하 공정 핵심 기술

극자외선(EUV) 노광 장비는 7나노미터 이하 미세 공정을 구현하는 핵심 장비로 반도체 웨이퍼에 회로를 새기는 공정에서 필수적인 기술로 평가.

[4] 미국 규제로 중국 장비 도입 제한

미국 정부의 반도체 제재로 중국 기업들은 ASML의 EUV 장비뿐 아니라 심자외선(DUV) 장비 일부도 수입이 제한된 상황.

[5] 개별 기술 확보했지만 시스템 통합이 과제

중국 기업들이 EUV 광원·광학 시스템·웨이퍼 등 일부 기술에서는 진전을 보였지만 이를 하나의 완성된 노광 시스템으로 통합하는 기술이 여전히 핵심 과제로 지적.